表面技术2006，Vol.35Issue(6)：5-7,3.
等离子体增强化学气相沉积制备的ZnO薄膜研究
Research of ZnO Thin Films Grown by Plasma-enhanced Chemical Vapor Deposition
郭爱波 1刘玉萍 1陈枫 1李斌 1但敏 1刘明海 1胡希伟1
作者信息
- 1. 华中科技大学电气与电子工程学院,湖北,武汉,430074
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摘要
关键词
等离子体增强/化学气相沉积/SEM/EDAX/XPS/衬底分类
数理科学引用本文复制引用
郭爱波,刘玉萍,陈枫,李斌,但敏,刘明海,胡希伟..等离子体增强化学气相沉积制备的ZnO薄膜研究[J].表面技术,2006,35(6):5-7,3.
