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空心阴极离子镀(Ti,Zr)N膜层制备及应用研究

肖宏清 刘谦

表面技术2004，Vol.33Issue(6)：57-59,3.
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表面技术2004，Vol.33Issue(6)：57-59,3.

空心阴极离子镀(Ti,Zr)N膜层制备及应用研究

Preparation and Application of HCD (Ti,Zr)N Coating

肖宏清 1刘谦2

作者信息

  • 1. 总装备部特种工程技术安装总队,北京,100085
  • 2. 装甲兵工程学院材料科学与工程系,北京,100072
  • 折叠

摘要

关键词

空心阴极离子镀(HCD)/(Ti,Zr)N/印制板

分类

矿业与冶金

引用本文复制引用

肖宏清,刘谦..空心阴极离子镀(Ti,Zr)N膜层制备及应用研究[J].表面技术,2004,33(6):57-59,3.

基金项目

安徽省教育厅基金资助项目(2004kj170) （2004kj170）

表面技术

OACSCDCSTPCD

1001-3660

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