福建师范大学学报（自然科学版）2009，Vol.25Issue(1)：57-62,6.
基片温度和氧气流量对磁控溅射制备ITO薄膜光电学性质的影响
Effects of Substrate Temperature and Oxygen Flow Rate on Electrical and Optical Properties of ITO Films Deposited by Magnetron Sputtering
摘要
关键词
ITO/薄膜/磁控溅射/光电学性质分类
数理科学引用本文复制引用
裴瑜,林丽梅,范丽琴,瞿燕,赖发春..基片温度和氧气流量对磁控溅射制备ITO薄膜光电学性质的影响[J].福建师范大学学报（自然科学版）,2009,25(1):57-62,6.基金项目
福建省自然科学基金资助项目(2007J0317) （2007J0317）
福建省科技厅重点项目(2007H0019) （2007H0019）
福建省教育厅基金资助项目(JB06104 （）
JB08065) （）
