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投影电子束光刻中电子穿透掩膜的Monte Carlo模拟

肖沛 张增明 孙霞 丁泽军

物理学报2006，Vol.55Issue(11)：5803-5809,7.
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物理学报2006，Vol.55Issue(11)：5803-5809,7.

投影电子束光刻中电子穿透掩膜的Monte Carlo模拟

Monte Carlo simulation of electron transmission through masks in projection electron lithography

肖沛 1张增明 2孙霞 1丁泽军1

作者信息

  • 1. 合肥微尺度物质科学国家实验室,中国科学技术大学物理系,合肥,230026
  • 2. 合肥微尺度物质科学国家实验室,中国科学技术大学天文与应用物理系,合肥,230026
  • 折叠

摘要

关键词

Monte Carlo模拟/电子束光刻/掩膜

分类

数理科学

引用本文复制引用

肖沛,张增明,孙霞,丁泽军..投影电子束光刻中电子穿透掩膜的Monte Carlo模拟[J].物理学报,2006,55(11):5803-5809,7.

基金项目

国家自然科学基金(批准号:10574121,60306006,90406024),安徽省自然科学基金(批准号:05021015)和安徽省人才开发基金(批准号:2001Z016)资助的课题. （批准号:10574121,60306006,90406024）

物理学报

OA北大核心CSCDCSTPCDSCI

1000-3290

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