材料科学与工程学报2008，Vol.26Issue(4)：582-584,598,4.
磁控溅射Cu-W薄膜的组织与结构
Structure of Cu-W Thin Films Deposited by Magnetron Sputtering
王瑞 1周灵平 1汪明朴 2朱家俊 2李德意 1李绍禄1
作者信息
- 1. 湖南大学材料科学与工程学院,湖南,长沙,410082
- 2. 中南大学材料科学与工程学院,湖南,长沙,410081
- 折叠
摘要
关键词
低维金属材料/铜钨薄膜/磁控溅射/亚稳固溶体分类
通用工业技术引用本文复制引用
王瑞,周灵平,汪明朴,朱家俊,李德意,李绍禄..磁控溅射Cu-W薄膜的组织与结构[J].材料科学与工程学报,2008,26(4):582-584,598,4.
