磁控溅射Cu-W薄膜的组织与结构OA北大核心CSCDCSTPCD
Structure of Cu-W Thin Films Deposited by Magnetron Sputtering
采用双靶磁控溅射共沉积方法制备Cu-W薄膜,其微观结构及形貌通过XRD、TEM和SEM方法测试,结果表明,Cu-W薄膜是由Cu固溶于W或W固溶于Cu的亚稳态固溶体组成,且随着W含量的增加,Cu-W薄膜依次形成面心立方fee结构的Cu基亚稳固溶体、fee和bee结构固溶体的双相区以及体心立方bee结构的W基亚稳固溶体,晶粒尺寸随溶质原子含量的增加而减小.这些亚稳固溶体的形成是由于溅射出的原子动能足以克服Cu、W固溶所需的混合热.以及溅射过程中…查看全部>>
王瑞;周灵平;汪明朴;朱家俊;李德意;李绍禄
湖南大学材料科学与工程学院,湖南,长沙,410082湖南大学材料科学与工程学院,湖南,长沙,410082中南大学材料科学与工程学院,湖南,长沙,410081中南大学材料科学与工程学院,湖南,长沙,410081湖南大学材料科学与工程学院,湖南,长沙,410082湖南大学材料科学与工程学院,湖南,长沙,410082
通用工业技术
低维金属材料铜钨薄膜磁控溅射亚稳固溶体
《材料科学与工程学报》 2008 (4)
582-584,598,4
评论