金刚石与磨料磨具工程Issue(5)：58-63,6.
化学机械抛光中抛光垫修整的作用及规律研究
Investigation of functions and effects of polishing pad conditioning in chemical mechanical polishing
摘要
关键词
化学机械抛光/抛光垫/修整/金刚石颗粒分类
化学化工引用本文复制引用
胡伟,魏昕,谢小柱,黄平..化学机械抛光中抛光垫修整的作用及规律研究[J].金刚石与磨料磨具工程,2007,(5):58-63,6.基金项目
广东省科技攻关项目(No.2002C1020201),广东省自然科学基金项目(No.020143),留学回国人员科研启动基金项目(教外司[2003]14号),广东省教育厅人才基金项目(粤教科[2002]44号),广东工业大学青年基金(042026) （No.2002C1020201）
