原子能科学技术2007，Vol.41Issue(5)：586-590,5.
加热去氩处理工艺对离子束混合沉积的C-SiC涂层阻氢性能的影响
Effect of Eliminating Argon by Heat-Treatment on Hydrogen Resistance of C-SiC Films Deposited by Ion Beam Mixing
摘要
关键词
C-SiC涂层/离子束混合沉积/阻氢/扫描电镜/二次离子质谱分类
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任丁,张瑞谦,黄宁康,曾俊辉,杜良,张东..加热去氩处理工艺对离子束混合沉积的C-SiC涂层阻氢性能的影响[J].原子能科学技术,2007,41(5):586-590,5.基金项目
国家自然科学基金资助项目(59781002) （59781002）
中国工程物理研究院基金资助项目 （）
四川大学协作项目 （）
