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闪速存储器中应力诱生漏电流的产生机理

刘红侠 郑雪峰 郝跃

物理学报2005,Vol.54Issue(12):5867-5871,5.
物理学报2005,Vol.54Issue(12):5867-5871,5.

闪速存储器中应力诱生漏电流的产生机理

Generation mechanism of stress induced leakage current in flash memory cell

刘红侠 1郑雪峰 1郝跃1

作者信息

  • 1. 西安电子科技大学微电子学院,宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室,西安,710071
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摘要

关键词

闪速存储器/应力诱生漏电流/电容耦合效应/可靠性

分类

数理科学

引用本文复制引用

刘红侠,郑雪峰,郝跃..闪速存储器中应力诱生漏电流的产生机理[J].物理学报,2005,54(12):5867-5871,5.

基金项目

国家自然科学基金(批准号:60206006)、国家高技术研究发展计划(批准号:2004AA1Z1070)和教育部重点科技研究计划(批准号:104172)资助的课题. (批准号:60206006)

物理学报

OA北大核心CSCDSCI

1000-3290

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