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半导体学报
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ECR Plasma CVD 法淀积 808nm 大功率半导体激光器光学膜工艺研究
ECR Plasma CVD 法淀积 808nm 大功率半导体激光器光学膜工艺研究
谭满清
茅冬生
半导体学报
Issue(7)：589-592,4.
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半导体学报
Issue(7)
：589-592,4.
ECR Plasma CVD 法淀积 808nm 大功率半导体激光器光学膜工艺研究
谭满清
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茅冬生
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谭满清,茅冬生..ECR Plasma CVD 法淀积 808nm 大功率半导体激光器光学膜工艺研究[J].半导体学报,1999,(7):589-592,4.
半导体学报
OA
北大核心
CSCD
ISSN：
1674-4926
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