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偏压磁控溅射法在柔性衬底上制备ZnO:Al透明导电膜

杨田林 高绪团 韩盛浩

曲阜师范大学学报（自然科学版）2002，Vol.28Issue(4)：59-63,5.
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曲阜师范大学学报（自然科学版）2002，Vol.28Issue(4)：59-63,5.

偏压磁控溅射法在柔性衬底上制备ZnO:Al透明导电膜

ZnO:AI FILMS DEPOSITED ON WATER-COOLED FLEXIBLE SUBSTRATES BY BIAS RF MAGNETRON SPUTTERING

杨田林 1高绪团 1韩盛浩2

作者信息

  • 1. 山东理工大学物理系,255049,山东省淄博市
  • 2. 山东大学物理与微电子学院,25010,山东省济南市
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摘要

关键词

光电性质/AZO薄膜/偏压溅射

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

杨田林,高绪团,韩盛浩..偏压磁控溅射法在柔性衬底上制备ZnO:Al透明导电膜[J].曲阜师范大学学报（自然科学版）,2002,28(4):59-63,5.

基金项目

国家自然基金资助课题(60176021) （60176021）

曲阜师范大学学报（自然科学版）

OACSTPCD

1001-5337

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