半导体学报2004,Vol.25Issue(5):597-600,4.
T形结构在位测量薄膜中残余张应力的理论研究
Study of In Situ Measurement of Residual Tensile Stress in Thin Films for T-Shaped Microstructures
摘要
关键词
应力/膜/变形分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
徐方迁,徐联,何世堂..T形结构在位测量薄膜中残余张应力的理论研究[J].半导体学报,2004,25(5):597-600,4.基金项目
中国科学院知识创新工程方向性项目(编号:KGCS2-102) (编号:KGCS2-102)