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物理学报
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Ge/Si(111)与Si/Ge(111)体系的生长特性与表面再构研究
Ge/Si(111)与Si/Ge(111)体系的生长特性与表面再构研究
陈可明
周国良
盛篪
蒋维栋
张翔九
物理学报
Issue(4):599-606,8.
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物理学报
Issue(4)
:599-606,8.
Ge/Si(111)与Si/Ge(111)体系的生长特性与表面再构研究
陈可明
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周国良
1
盛篪
1
蒋维栋
1
张翔九
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陈可明,周国良,盛篪,蒋维栋,张翔九..Ge/Si(111)与Si/Ge(111)体系的生长特性与表面再构研究[J].物理学报,1990,(4):599-606,8.
物理学报
OA
CSCD
ISSN:
1000-3290
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