|
国家科技期刊平台
|
注册
中文
EN
首页
|
期刊导航
|
半导体学报
|
SiCl4-SiH4-H2混合源的硅外延生长
SiCl4-SiH4-H2混合源的硅外延生长
汤广平
刘明登
全宝富
赵慕愚
半导体学报
Issue(6):602,1.
下载
✕
半导体学报
Issue(6)
:602,1.
SiCl4-SiH4-H2混合源的硅外延生长
汤广平
1
刘明登
1
全宝富
1
赵慕愚
1
作者信息
折叠
摘要
引用本文
复制引用
汤广平,刘明登,全宝富,赵慕愚..SiCl4-SiH4-H2混合源的硅外延生长[J].半导体学报,1986,(6):602,1.
半导体学报
ISSN:
1674-4926
下载
访问量
0
|
下载量
0
段落导航
相关论文
摘要
引用文本