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Nd掺杂对Bi4Ti3O12铁电薄膜的微结构和铁电性能的影响

谭丛兵 钟向丽 王金斌 廖敏 周益春 潘伟

物理学报2007，Vol.56Issue(10)：6084-6089,6.
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物理学报2007，Vol.56Issue(10)：6084-6089,6.

Nd掺杂对Bi4Ti3O12铁电薄膜的微结构和铁电性能的影响

Effects of neodymium doping on microstructures and ferroelectric properties of bismuth titanate ferroelectric thin films

谭丛兵 1钟向丽 2王金斌 1廖敏 1周益春 1潘伟1

作者信息

  • 1. 低维材料及其应用技术教育部重点实验室,湘潭大学,湘潭,411105
  • 2. 湖南科技大学物理学院,湘潭,411201
  • 折叠

摘要

关键词

Nd掺杂/Bi4Ti3O12/拉曼频移/铁电性能

分类

数理科学

引用本文复制引用

谭丛兵,钟向丽,王金斌,廖敏,周益春,潘伟..Nd掺杂对Bi4Ti3O12铁电薄膜的微结构和铁电性能的影响[J].物理学报,2007,56(10):6084-6089,6.

基金项目

国家杰出青年科学基金(批准号:10525211),教育部科技创新工程重大项目培育资金(批准号:076044,和湖南省自然科学基金(批准号:06JJ30022)资助的课题. （批准号:10525211）

物理学报

OA北大核心CSCDCSTPCDSCI

1000-3290

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