人工晶体学报2003，Vol.32Issue(6)：610-612,3.
金刚石膜在Si(100)衬底上的选择沉积
elective Deposition of Diamond Films on Si (100) Substrates
常开朋 1程文娟 1江锦春 1张阳 1朱鹤孙 2沈德忠1
作者信息
- 1. 清华大学化学系,功能晶体与薄膜研究所,北京,100084
- 2. 清华大学光子与电子技术研究中心,北京,100084
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摘要
关键词
金刚石膜/Si(100)衬底/微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)分类
数理科学引用本文复制引用
常开朋,程文娟,江锦春,张阳,朱鹤孙,沈德忠..金刚石膜在Si(100)衬底上的选择沉积[J].人工晶体学报,2003,32(6):610-612,3.
