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分步偏压溅射法制备碳化硅薄膜

严辉 谭利文 宋雪梅 王波 陈光华 姚振宇 刘立明 程业浩

材料科学与工程2000,Vol.18Issue(z2):612-614,3.
材料科学与工程2000,Vol.18Issue(z2):612-614,3.

分步偏压溅射法制备碳化硅薄膜

严辉 1谭利文 1宋雪梅 1王波 1陈光华 1姚振宇 2刘立明 2程业浩2

作者信息

  • 1. 北京工业大学材料学院,北京,100022
  • 2. 中国原子能科学研究院,北京,102413
  • 折叠

摘要

关键词

分步偏压 SiC 溅射氚渗透率

引用本文复制引用

严辉,谭利文,宋雪梅,王波,陈光华,姚振宇,刘立明,程业浩..分步偏压溅射法制备碳化硅薄膜[J].材料科学与工程,2000,18(z2):612-614,3.

基金项目

北京市青年科技骨干培养基金和北京市自然科学基金资助项目 ()

材料科学与工程

OACSCDCSTPCD

1673-2812

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