半导体学报2005，Vol.26Issue(z1)：61-64,4.
磁控溅射法生长CeO2/Si薄膜及其发光性质
Investigation of PL of CeO2/Si Thin Film Fabricated Using Magetron Control Sputtering System
摘要
关键词
磁控溅射/CeO2薄膜/发光分类
数理科学引用本文复制引用
柴春林,杨少延,刘志凯,陈诺夫..磁控溅射法生长CeO2/Si薄膜及其发光性质[J].半导体学报,2005,26(z1):61-64,4.基金项目
国家重点基础研究发展计划(批准号:G2000036505)和国家自然科学基金(批准号:60206007)资助项目 （批准号:G2000036505）
