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半导体学报
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热解CVD方法制备氧化铍薄膜的研究
热解CVD方法制备氧化铍薄膜的研究
徐宝琨
杨弘
卢致玉
岳万刚
王子忱
赵慕愚
半导体学报
Issue(10)：636,1.
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半导体学报
Issue(10)
：636,1.
热解CVD方法制备氧化铍薄膜的研究
徐宝琨
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杨弘
1
卢致玉
1
岳万刚
1
王子忱
1
赵慕愚
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关键词
氧化铍
/
薄膜
/
热解
/
CVD
分类
信息技术与安全科学
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徐宝琨,杨弘,卢致玉,岳万刚,王子忱,赵慕愚..热解CVD方法制备氧化铍薄膜的研究[J].半导体学报,1992,(10):636,1.
半导体学报
OA
北大核心
CSCD
ISSN：
1674-4926
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