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激光致溅射沉积Ge2Sb2Te5薄膜的结晶行为研究

刘波 阮昊 干福熹

无机材料学报2002，Vol.17Issue(3)：637-640,4.
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无机材料学报2002，Vol.17Issue(3)：637-640,4.

激光致溅射沉积Ge2Sb2Te5薄膜的结晶行为研究

Laser-induced Crystallization Behavior of the Sputtered Ge2Sb2Te5 Film

刘波 1阮昊 1干福熹1

作者信息

  • 1. 中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800
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摘要

关键词

Ge2Sb2Te5/激光致相变/X射线衍射/面心立方

分类

数理科学

引用本文复制引用

刘波,阮昊,干福熹..激光致溅射沉积Ge2Sb2Te5薄膜的结晶行为研究[J].无机材料学报,2002,17(3):637-640,4.

基金项目

国家自然科学基金(59832060) （59832060）

无机材料学报

OA北大核心CSCDCSTPCDSCI

1000-324X

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