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Si3N4陶瓷轴承内圈NCD膜制备中的热流耦合分析

杨春 卢文壮 左敦稳 徐锋 任卫涛

人工晶体学报2009,Vol.38Issue(3):642-647,6.
人工晶体学报2009,Vol.38Issue(3):642-647,6.

Si3N4陶瓷轴承内圈NCD膜制备中的热流耦合分析

Heat-flux Coupling Simulation during the Process of Growing NCD Film on Si3N4 Bearing Inner Ring

杨春 1卢文壮 1左敦稳 1徐锋 1任卫涛1

作者信息

  • 1. 南京航空航天大学江苏省精密与微细制造技术重点实验室,南京,210016
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摘要

关键词

NCD/陶瓷轴承/涂层/热流耦合分析/有限元

分类

数理科学

引用本文复制引用

杨春,卢文壮,左敦稳,徐锋,任卫涛..Si3N4陶瓷轴承内圈NCD膜制备中的热流耦合分析[J].人工晶体学报,2009,38(3):642-647,6.

基金项目

国家自然科学基金资助项目(No.50605032) (No.50605032)

江苏省自然科学基金资助项目(No.BK2006189 ()

No.BK2007193) ()

人工晶体学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1000-985X

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