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阴极弧电流对TiN及(TiTa)N薄膜结构和性能影响

刘燕燕 白晓 林国强 张庆瑜

大连理工大学学报2002,Vol.42Issue(6):644-648,5.
大连理工大学学报2002,Vol.42Issue(6):644-648,5.

阴极弧电流对TiN及(TiTa)N薄膜结构和性能影响

Influences of cathode arc current on microstructures and properties of TiN and (TiTa)N coatings

刘燕燕 1白晓 1林国强 1张庆瑜1

作者信息

  • 1. 大连理工大学,三束材料改性国家重点实验室,辽宁,大连,116024
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摘要

关键词

微观结构/显微硬度/电弧离子镀/阴极弧电流/TiN薄膜/(TiTa)N薄膜

分类

矿业与冶金

引用本文复制引用

刘燕燕,白晓,林国强,张庆瑜..阴极弧电流对TiN及(TiTa)N薄膜结构和性能影响[J].大连理工大学学报,2002,42(6):644-648,5.

基金项目

国家自然科学基金资助项目(50071017). (50071017)

大连理工大学学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1000-8608

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