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磁控溅射中工作压强对钛膜沉积的影响

李丽 吴卫 金永中 于越

表面技术2009，Vol.38Issue(1)：64-65,68,3.
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表面技术2009，Vol.38Issue(1)：64-65,68,3.

磁控溅射中工作压强对钛膜沉积的影响

Effect of Working Pressure on Ti Thin Film Deposited by Magnetron Sputtering

李丽 1吴卫 1金永中 2于越1

作者信息

  • 1. 西华大学材料科学与工程学院,四川,成都,610039
  • 2. 四川理工学院,四川,自贡,643000
  • 折叠

摘要

关键词

Ti膜/磁控溅射/工作压强/均方根粗糙度

分类

矿业与冶金

引用本文复制引用

李丽,吴卫,金永中,于越..磁控溅射中工作压强对钛膜沉积的影响[J].表面技术,2009,38(1):64-65,68,3.

基金项目

"十五"国家863项目(2002AA324010) （2002AA324010）

表面技术

OA北大核心CSCDCSTPCD

1001-3660

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