红外技术2003,Vol.25Issue(6):64-68,5.
标准温度和衬底分步清洗对GaN初始生长影响RHEED研究
Study of ECR-Plasma Cleaning of Sapphire Substrate Using RHEED
摘要
关键词
蓝宝石/清洗/氮化/RHEED/GaN分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
郎佳红,顾彪,徐茵,秦福文,曲钢..标准温度和衬底分步清洗对GaN初始生长影响RHEED研究[J].红外技术,2003,25(6):64-68,5.基金项目
国家自然科学基金资助项目(No.69976008) (No.69976008)