物理学报2006，Vol.55Issue(12)：6511-6514,4.
改性光刻胶制备纳米压印模版
Molds for nanoimprinting made by modified photoresist
陈雷明 1郭艳峰 2郭熹 1唐为华1
作者信息
- 1. 中国科学院物理研究所北京凝聚态物理国家实验室,北京,100080
- 2. 郑州航空工业管理学院数理系,郑州,450015
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摘要
关键词
纳米压印/光刻胶/聚焦离子束/纳米孔阵列分类
数理科学引用本文复制引用
陈雷明,郭艳峰,郭熹,唐为华..改性光刻胶制备纳米压印模版[J].物理学报,2006,55(12):6511-6514,4.
