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利用场发射显微镜测算碳化钨薄膜的逸出功

孙建平 张兆祥 侯士敏 张耿民 赵兴钰 刘惟敏 薛增泉

电子学报2002,Vol.30Issue(5):655-657,3.
电子学报2002,Vol.30Issue(5):655-657,3.

利用场发射显微镜测算碳化钨薄膜的逸出功

Work Function of Tungsten Carbide Thin Film Calculated Using Field Emission Microscopy

孙建平 1张兆祥 1侯士敏 1张耿民 1赵兴钰 1刘惟敏 1薛增泉1

作者信息

  • 1. 北京大学电子学系,北京,100871
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摘要

关键词

场发射/场发射显微镜/碳化钨薄膜/逸出功

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

孙建平,张兆祥,侯士敏,张耿民,赵兴钰,刘惟敏,薛增泉..利用场发射显微镜测算碳化钨薄膜的逸出功[J].电子学报,2002,30(5):655-657,3.

基金项目

国家自然科学基金(No.69890221,69971003) (No.69890221,69971003)

教育部科学技术研究重点项目基金(No.00005) (No.00005)

电子学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

0372-2112

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