|国家科技期刊平台
| 注册
首页|期刊导航|半导体学报|用微波等离子体化学气相沉积法低温生长织构多晶硅薄膜

用微波等离子体化学气相沉积法低温生长织构多晶硅薄膜

贺德衍 Shimi.,I

半导体学报Issue(9)：661,1.
✕
半导体学报Issue(9)：661,1.

用微波等离子体化学气相沉积法低温生长织构多晶硅薄膜

贺德衍 1Shimi.,I1

作者信息

  • 1. 兰州大学物理系
  • 折叠

摘要

关键词

薄膜半导体/多晶硅薄膜/PECVD法/制备

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

贺德衍,Shimi.,I..用微波等离子体化学气相沉积法低温生长织构多晶硅薄膜[J].半导体学报,1998,(9):661,1.

半导体学报

OA北大核心CSCD

1674-4926

访问量0
|
下载量0
段落导航相关论文