Hg1-xMnxTe的化学抛光研究

王浩亮孙晓燕介万奇

人工晶体学报2008，Vol.37Issue(3)：662-665,4.

Study on Chemical Polishing of Hg1-xMnxTe Wafer

王浩亮 ¹孙晓燕 ¹介万奇¹

作者信息

Hg1-xMnxTe/表面损伤层/腐蚀速度/平均粗糙度/电阻率

数理科学

王浩亮,孙晓燕,介万奇..Hg1-xMnxTe的化学抛光研究[J].人工晶体学报,2008,37(3):662-665,4.

国家自然科学基金重点项目(No.50336040) （No.50336040）

OA北大核心CSCDCSTPCD

ISSN：1000-985X

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