物理学报2008，Vol.57Issue(10)：6636-6642,7.
脉冲偏压电弧离子镀CNx薄膜研究
Investigation on CNx films deposited by pulsed bias arc ion plating
摘要
关键词
CNx薄膜/脉冲偏压/电弧离子镀/硬度分类
化学化工引用本文复制引用
李红凯,林国强,董闯..脉冲偏压电弧离子镀CNx薄膜研究[J].物理学报,2008,57(10):6636-6642,7.基金项目
国家高技术研究发展计划(863)(批准号:2006AA032521和2007AA032221)资助的课题. （863）
