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重掺B对应变SiGe材料能带结构的影响

姚飞 薛春来 成步文 王启明

物理学报2007,Vol.56Issue(11):6654-6659,6.
物理学报2007,Vol.56Issue(11):6654-6659,6.

重掺B对应变SiGe材料能带结构的影响

Band gap Narrowing in heavily B doped Si1-xGex strained layers

姚飞 1薛春来 1成步文 1王启明1

作者信息

  • 1. 中国科学院半导体研究所集成光电子国家重点实验室,北京,100083
  • 折叠

摘要

关键词

SiGe材料/应变/带隙收缩(BGN)/Jain-Roulston模型

分类

数理科学

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姚飞,薛春来,成步文,王启明..重掺B对应变SiGe材料能带结构的影响[J].物理学报,2007,56(11):6654-6659,6.

基金项目

国家高技术研究发展计划(批准号:2006AA03Z415),国家重点基础研究发展规划(批准号:2006CB302802和2007CB613404)和国家自然科学基金 (批准号:60336010,60676005) 资助的课题. (批准号:2006AA03Z415)

物理学报

OA北大核心CSCDCSTPCDSCI

1000-3290

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