表面技术2008，Vol.37Issue(6)：66-68,3.
工艺参数对离子束辅助沉积TiN薄膜性能的影响
Effects of Film Forming Parameter on the Properties of Ion-beam Aiding Deposition TiN Thin Film
李国明 1孙世尧 2陈学群1
作者信息
- 1. 海军工程大学理学院化学与材料系,湖北,武汉,430033
- 2. 中国人民解放军第161医院,湖北,武汉,430033
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摘要
关键词
铁铬钼软磁合金/离子束辅助沉积/显微硬度/耐蚀性/TiN薄膜分类
矿业与冶金引用本文复制引用
李国明,孙世尧,陈学群..工艺参数对离子束辅助沉积TiN薄膜性能的影响[J].表面技术,2008,37(6):66-68,3.
