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航空材料学报
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磁控溅射沉积工艺条件对薄膜厚度均匀性的影响
磁控溅射沉积工艺条件对薄膜厚度均匀性的影响
温培刚
颜悦
张官理
望咏林
航空材料学报
2007，Vol.27
Issue(3)：66-68,3.
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航空材料学报
2007，Vol.27
Issue(3)
：66-68,3.
磁控溅射沉积工艺条件对薄膜厚度均匀性的影响
Influences of the Process on Thickness Uniformity of Films Deposited by Magnetron Sputtering
温培刚
1
颜悦
1
张官理
1
望咏林
1
作者信息
1.
北京航空材料研究院,北京,100095
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关键词
磁控溅射
/
膜厚均匀性
/
膜厚测量
引用本文
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温培刚,颜悦,张官理,望咏林..磁控溅射沉积工艺条件对薄膜厚度均匀性的影响[J].航空材料学报,2007,27(3):66-68,3.
航空材料学报
OA
CSCD
CSTPCD
ISSN：
1005-5053
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