溅射功率对氧化锡薄膜结构和电化学性能的影响OA北大核心CSCDCSTPCD
The Influence of the Sputtering Power on the Structural and Electrochemical Properties of Tin Oxide Films
应用射频磁控溅射技术在硅基底上制备氧化锡薄膜,着重研究溅射功率对薄膜结构和电化学性能的影响.XRD,SEM分析及恒电流充放电测试表明,随着溅射功率的增大,薄膜的结晶程度提高;生长速率和晶粒尺寸增大;电池的贮锂容量减少,且首圈不可逆容量损失增大.溅射功率对薄膜的电化学性能有较大的影响.
蔡敏真;宋杰;吴启辉;郑明森;吴孙桃;董全峰
厦门大学物理系,福建,厦门,361005厦门大学,固体表面物理化学国家重点实验室,化学化工学院化学系,福建,厦门,361005厦门大学物理系,福建,厦门,361005厦门大学,固体表面物理化学国家重点实验室,化学化工学院化学系,福建,厦门,361005厦门大学萨本栋微机电研究中心,福建,厦门,361005厦门大学,固体表面物理化学国家重点实验室,化学化工学院化学系,福建,厦门,361005
化学化工
氧化锡薄膜阳极材料磁控溅射电化学性能
《电化学》 2008 (1)
66-70,5
国家重点基础研究发展计划项目(973计划,No.2002CB211807)资助
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