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用CHF3/Ar为工作气体刻蚀融石英

周明宝 崔铮

光学精密工程1999，Vol.7Issue(2)：67-72,6.
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光学精密工程1999，Vol.7Issue(2)：67-72,6.

用CHF3/Ar为工作气体刻蚀融石英

周明宝 1崔铮2

作者信息

  • 1. 中国科学院光电技术研究所
  • 2. 英国卢瑟福国家实验室微结构中心
  • 折叠

摘要

关键词

石英/反应离子刻蚀/氩气/氟利昂/衍射光学元件

分类

机械制造

引用本文复制引用

周明宝,崔铮..用CHF3/Ar为工作气体刻蚀融石英[J].光学精密工程,1999,7(2):67-72,6.

光学精密工程

OACSCD

1004-924X

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