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嵌入屏障的绝缘介质中电树生长模型

谷琛 严萍 张适昌

高电压技术2006,Vol.32Issue(7):6-9,4.
高电压技术2006,Vol.32Issue(7):6-9,4.

嵌入屏障的绝缘介质中电树生长模型

Electrical Treeing Model in Dielectric with Barriers

谷琛 1严萍 2张适昌1

作者信息

  • 1. 中国科学院电工研究所,北京,100080
  • 2. 中国科学院研究生院,北京,100039
  • 折叠

摘要

关键词

击穿/屏障/仿真/耐电强度/绝缘介质/电树

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

谷琛,严萍,张适昌..嵌入屏障的绝缘介质中电树生长模型[J].高电压技术,2006,32(7):6-9,4.

基金项目

国家自然科学基金资助项目(50207011 ()

50437020) ()

高电压技术

OA北大核心CSCDCSTPCD

1003-6520

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