| 注册
首页|期刊导航|电子器件|用两次键合技术制备均匀单晶硅膜

用两次键合技术制备均匀单晶硅膜

何芳 黄庆安 秦明

电子器件2006,Vol.29Issue(1):69-72,75,5.
电子器件2006,Vol.29Issue(1):69-72,75,5.

用两次键合技术制备均匀单晶硅膜

Fabrication of Uniform Crystal Silicon Membrane Using Two-Step Silicon Direct Bonding Technology

何芳 1黄庆安 1秦明1

作者信息

  • 1. 东南大学MEMS教育部重点实验室,南京,210096
  • 折叠

摘要

关键词

硅直接键合/减薄/单晶硅薄膜/MEMS器件

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

何芳,黄庆安,秦明..用两次键合技术制备均匀单晶硅膜[J].电子器件,2006,29(1):69-72,75,5.

基金项目

国家自然科学基金资助课题(60476019) (60476019)

电子器件

OACSTPCD

1005-9490

访问量0
|
下载量0
段落导航相关论文