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直流电弧等离子体CVD金刚石膜工艺参数优化

张鬲君 苗晋琦 钟国防

金刚石与磨料磨具工程Issue(3):70-73,4.
金刚石与磨料磨具工程Issue(3):70-73,4.

直流电弧等离子体CVD金刚石膜工艺参数优化

Optimization on the technical parameters of DC arc plasma jet CVD diamond films

张鬲君 1苗晋琦 2钟国防2

作者信息

  • 1. 中原工学院工业训练中心,郑州,450007
  • 2. 北京科技大学材料学院,北京,100083
  • 折叠

摘要

关键词

直流电弧等离子体喷射/化学气相沉积/金刚石膜/工艺参数

分类

化学化工

引用本文复制引用

张鬲君,苗晋琦,钟国防..直流电弧等离子体CVD金刚石膜工艺参数优化[J].金刚石与磨料磨具工程,2008,(3):70-73,4.

金刚石与磨料磨具工程

OA北大核心CSTPCD

1006-852X

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