人工晶体学报2008，Vol.37Issue(1)：70-75,6.
HfO2薄膜反应磁控溅射沉积工艺的研究
Study of the Deposition of HfO2 Thin Films by Reactive Magnetron Sputtering Process
摘要
关键词
HfO2薄膜/反应磁控溅射沉积/红外透过率分类
数理科学引用本文复制引用
贺琦,王宏斌,张树玉,吕反修,杨海,苏小平..HfO2薄膜反应磁控溅射沉积工艺的研究[J].人工晶体学报,2008,37(1):70-75,6.基金项目
国家自然科学基金(No.50572007) （No.50572007）
教育部高等学校博士学科点专项科研基金(No.2004 0008 018)项目 （No.2004 0008 018）
