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氨处理抑制SiO2/ZrO2薄膜膜间渗透

章春来 尹伟 祖小涛 王毕艺 向霞 袁晓东 蒋晓东 吕海兵 郑万国

原子能科学技术2009，Vol.43Issue(8)：711-715,5.
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原子能科学技术2009，Vol.43Issue(8)：711-715,5.

氨处理抑制SiO2/ZrO2薄膜膜间渗透

Infiltrating Control of SiO2/ZrO2 Sol-Gel Films by Ammonia Treatment

章春来 1尹伟 2祖小涛 1王毕艺 2向霞 1袁晓东 1蒋晓东 2吕海兵 1郑万国2

作者信息

  • 1. 电子科技大学物理电子学院,四川,成都,610054
  • 2. 中国工程物理研究院激光聚变研究中心,四川,绵阳,621900
  • 折叠

摘要

关键词

溶胶-凝胶/SiO2/ZrO2/氨处理/椭偏模拟/膜间渗透/激光损伤阈值

分类

数理科学

引用本文复制引用

章春来,尹伟,祖小涛,王毕艺,向霞,袁晓东,蒋晓东,吕海兵,郑万国..氨处理抑制SiO2/ZrO2薄膜膜间渗透[J].原子能科学技术,2009,43(8):711-715,5.

基金项目

国家"863"计划资助项目(2007AA804233) （2007AA804233）

原子能科学技术

OA北大核心CSCDCSTPCD

1000-6931

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