理化检验-物理分册2008，Vol.44Issue(2)：71-74,93,5.
射频磁控反应溅射制备ZnO/AlN双层膜的结构和性能
STRUCTURE AND PROPERTIES OF ZnO/AlN BILAYERS PREPARED BY RF MAGNETRON REACTIVE SPUTTERING
摘要
关键词
射频磁控反应溅射/缓冲层/表面形貌/电阻率/荧光光谱分类
通用工业技术引用本文复制引用
巫邵波,李合琴,王淑占,顾金宝,赵之明..射频磁控反应溅射制备ZnO/AlN双层膜的结构和性能[J].理化检验-物理分册,2008,44(2):71-74,93,5.基金项目
安徽省自然科学基金(03044703) （03044703）
安徽省红外与低温等离子体重点实验室(2007C002107D) （2007C002107D）
