| 注册
首页|期刊导航|材料工程|PECVD法制备硅基ZnO薄膜光学性能的研究

PECVD法制备硅基ZnO薄膜光学性能的研究

王应民 杜楠 蔡莉 李禾 程国安

材料工程Issue(11):71-75,5.
材料工程Issue(11):71-75,5.

PECVD法制备硅基ZnO薄膜光学性能的研究

Optical Property of ZnO Films Grown on Si Substrate by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition

王应民 1杜楠 2蔡莉 1李禾 1程国安1

作者信息

  • 1. 南昌航空大学,材料科学与工程学院,南昌,330063
  • 2. 南开大学,光电子薄膜器件与技术研究所,天津,300071
  • 折叠

摘要

关键词

Si(111)/ZnO薄膜/等离子增强化学气相沉积/反射光谱

分类

数理科学

引用本文复制引用

王应民,杜楠,蔡莉,李禾,程国安..PECVD法制备硅基ZnO薄膜光学性能的研究[J].材料工程,2007,(11):71-75,5.

基金项目

江西省材料中心基金(ZX200401007) (ZX200401007)

南昌航空大学博士科研启动基金(EA200601184) (EA200601184)

江西省教育厅科技项目(DB200501107)资助 (DB200501107)

材料工程

OA北大核心CSCDCSTPCD

1001-4381

访问量0
|
下载量0
段落导航相关论文