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CMOS/SOD抗核加固电路辐照后的恢复特性

王怀荣 姚达 苏秀娣 许仲德 陆剑侠 顾长志 金曾孙

吉林大学自然科学学报Issue(3):72,1.
吉林大学自然科学学报Issue(3):72,1.

CMOS/SOD抗核加固电路辐照后的恢复特性

The Recovery Characteristics of Radiated CMOS/SOD Circuit

王怀荣 1姚达 1苏秀娣 1许仲德 1陆剑侠 1顾长志 2金曾孙2

作者信息

  • 1. 东北微电子研究所,沈阳,110035
  • 2. 吉林大学超硬材料国家重点实验室,长春,130023
  • 折叠

摘要

关键词

金刚石膜上的薄层硅/集成电路/抗辐射/恢复特性

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

王怀荣,姚达,苏秀娣,许仲德,陆剑侠,顾长志,金曾孙..CMOS/SOD抗核加固电路辐照后的恢复特性[J].吉林大学自然科学学报,1999,(3):72,1.

吉林大学自然科学学报

1671-5489

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