人工晶体学报2006，Vol.35Issue(4)：728-731,4.
Si基上电沉积Cu薄膜的形貌与择优取向
Morphology and Preferential Orientation of Electro-deposited Cu/Si Thin Films
摘要
关键词
Cu/电沉积/Si衬底/择优取向分类
数理科学引用本文复制引用
张雅婷,徐章程,李菲晖..Si基上电沉积Cu薄膜的形貌与择优取向[J].人工晶体学报,2006,35(4):728-731,4.基金项目
国家自然科学基金(No.60444010,No.60506013) （No.60444010,No.60506013）
南开大学引进人才科研启动基金 （）
教育部留学回国人员科研启动基金 （）
长江学者和创新团队发展计划资助 （）
