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MOCVD侧向外延GaN的结构特性

方慧智 陆敏 陈志忠 陆羽 胡晓东 杨志坚 张国义

发光学报2005,Vol.26Issue(6):748-752,5.
发光学报2005,Vol.26Issue(6):748-752,5.

MOCVD侧向外延GaN的结构特性

Structural Characterization of Epitaxial Lateral Overgrowth GaN by MOCVD

方慧智 1陆敏 2陈志忠 1陆羽 2胡晓东 1杨志坚 2张国义1

作者信息

  • 1. 北京大学,物理学院
  • 2. 人工微结构和介观物理国家重点实验室,宽禁带半导体研究中心,北京,100871
  • 折叠

摘要

关键词

侧向外延/金属有机化学气相沉积/氮化镓/原子力显微镜/拉曼散射

分类

数理科学

引用本文复制引用

方慧智,陆敏,陈志忠,陆羽,胡晓东,杨志坚,张国义..MOCVD侧向外延GaN的结构特性[J].发光学报,2005,26(6):748-752,5.

基金项目

国家自然科学基金(60376005, 60276010) (60376005, 60276010)

国家"863"计划(2001AA313140, 2001AA313060)资助项目 (2001AA313140, 2001AA313060)

发光学报

OA北大核心CSCD

1000-7032

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