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大规模集成电路刻蚀过程和终点的在线监测——等离子发射光谱法

米宝永

光学精密工程Issue(3)：75,1.
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光学精密工程Issue(3)：75,1.

大规模集成电路刻蚀过程和终点的在线监测——等离子发射光谱法

米宝永1

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摘要

引用本文复制引用

米宝永..大规模集成电路刻蚀过程和终点的在线监测——等离子发射光谱法[J].光学精密工程,1996,(3):75,1.

基金项目

“七.五”、“八.五”攻关项目 （）

光学精密工程

OACSCD

1004-924X

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