西安理工大学学报2007，Vol.23Issue(1)：75-78,4.
衬底温度和退火温度对磁控溅射TiNi合金薄膜组织结构的影响
Effection of Substrate Temperature and Annealing Temperature on the Organization Structure of TiNi Alloy Films Prepared by Magnetron Sputtering
摘要
关键词
TiNi薄膜/组织结构/磁控溅射分类
矿业与冶金引用本文复制引用
曹伟产,卢正欣,井晓天,郑荣军,麻西群..衬底温度和退火温度对磁控溅射TiNi合金薄膜组织结构的影响[J].西安理工大学学报,2007,23(1):75-78,4.基金项目
西安理工大学校创新基金资助项目(101-210302). （101-210302）
