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一种快速光刻模拟中二维成像轮廓提取的新方法

陈志锦 史峥 王国雄 付萍 严晓浪

半导体学报2002，Vol.23Issue(7)：766-771,6.
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半导体学报2002，Vol.23Issue(7)：766-771,6.

一种快速光刻模拟中二维成像轮廓提取的新方法

A New Method of 2D Contour Extraction For Fast Simulation of Photolithographic Process

陈志锦 1史峥 1王国雄 2付萍 3严晓浪1

作者信息

  • 1. 浙江大学超大规模集成电路设计研究所,杭州,310027
  • 2. 鞍山钢铁学院电子与信息工程学院,鞍山,114002
  • 3. 华东地质学院信息工程系,临川,344000
  • 折叠

摘要

关键词

光学邻近校正(OPC)/光刻模拟/二维轮廓提取

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

陈志锦,史峥,王国雄,付萍,严晓浪..一种快速光刻模拟中二维成像轮廓提取的新方法[J].半导体学报,2002,23(7):766-771,6.

基金项目

国家自然科学基金资助项目(批准号:60176015) （批准号:60176015）

半导体学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1674-4926

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