发光学报2005，Vol.26Issue(6)：772-776,5.
常压MOCVD生长ZnO/GaN/Al2O3薄膜及其性能
ZnO Thin Films Grown on GaN/Al2O3 Templates by Atmospheric Pressure MOCVD
摘要
关键词
金属有机化学气相沉积/GaN/Al2O3/原子力显微镜/X射线双晶衍射/光致发光分类
数理科学引用本文复制引用
戴江南,王立,方文卿,蒲勇,莫春兰,熊传兵,郑畅达,刘卫华,江风益..常压MOCVD生长ZnO/GaN/Al2O3薄膜及其性能[J].发光学报,2005,26(6):772-776,5.基金项目
国家"863"计划纳米专项(2003AA302160) （2003AA302160）
电子发展基金(2004125)资助项目 （2004125）
