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H2对SrBi2Ta2O9薄膜表面形貌和铁电性能的影响

王东生 于涛 吴迪 胡安

南京航空航天大学学报2004,Vol.36Issue(6):774-777,4.
南京航空航天大学学报2004,Vol.36Issue(6):774-777,4.

H2对SrBi2Ta2O9薄膜表面形貌和铁电性能的影响

Effects of Annealing in H2-Containing Ambient on Surface Morphologies and Ferroelectricities of SrBi2Ta2O9 Ferroelectric Thin Films

王东生 1于涛 2吴迪 2胡安2

作者信息

  • 1. 南京航空航天大学理学院,南京,210016
  • 2. 南京大学固体微结构物理国家重点实验室,南京,210093
  • 折叠

摘要

关键词

SBT薄膜/混合气氛/铁电性能

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

王东生,于涛,吴迪,胡安..H2对SrBi2Ta2O9薄膜表面形貌和铁电性能的影响[J].南京航空航天大学学报,2004,36(6):774-777,4.

南京航空航天大学学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1005-2615

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