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新型半导体清洗剂的清洗工艺

曹宝成 于新好 马洪磊

半导体学报2002,Vol.23Issue(7):777-781,5.
半导体学报2002,Vol.23Issue(7):777-781,5.

新型半导体清洗剂的清洗工艺

New Cleaning Technique of Semiconductor Detergent

曹宝成 1于新好 1马洪磊1

作者信息

  • 1. 山东大学光电材料与器件研究所,济南,250100
  • 折叠

摘要

关键词

红外吸收谱/X射线光电子谱/清洗工艺

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

曹宝成,于新好,马洪磊..新型半导体清洗剂的清洗工艺[J].半导体学报,2002,23(7):777-781,5.

基金项目

国家自然科学基金资助项目(批准号:60176032) (批准号:60176032)

半导体学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1674-4926

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