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基体表面状态对直流磁控溅射铬膜附着性的影响

范洪远 李伟 沈保罗 唐正华 向文欣 应诗浩

四川大学学报(工程科学版)2003,Vol.35Issue(2):77-79,3.
四川大学学报(工程科学版)2003,Vol.35Issue(2):77-79,3.

基体表面状态对直流磁控溅射铬膜附着性的影响

Effect of Substrate Surface Appearance on the Adhesion of Cr Films Deposited by D.C Magnetron Sputtering

范洪远 1李伟 1沈保罗 1唐正华 1向文欣 2应诗浩2

作者信息

  • 1. 四川大学,制造学院,四川,成都,610065
  • 2. 中国核动力研究设计院,四川,成都,610041
  • 折叠

摘要

关键词

基体表面状态/直流磁控溅射/铬膜/锆合金/附着性

分类

化学化工

引用本文复制引用

范洪远,李伟,沈保罗,唐正华,向文欣,应诗浩..基体表面状态对直流磁控溅射铬膜附着性的影响[J].四川大学学报(工程科学版),2003,35(2):77-79,3.

基金项目

武器装备预研基金资助项目(51481080101SC0101) (51481080101SC0101)

四川大学学报(工程科学版)

OACSCDCSTPCD

2096-3246

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